삼성전자, EUV 기반 5나노 파운드리 공정 개발

7나노 대비 면적 줄고 효율·성능 향상

성상영 기자 | 기사입력 2019/04/16 [15:00]

삼성전자, EUV 기반 5나노 파운드리 공정 개발

7나노 대비 면적 줄고 효율·성능 향상

성상영 기자 | 입력 : 2019/04/16 [15:00]

EUV 적용제품 양산 본격 개시

초미세 공정 기술 리더십 강화

 

삼성전자가 극자외선(EUV) 기술을 기반으로 5나노 공정 개발에 성공했다. 삼성전자는 이달 안에 7나노 제품을 출하하고, 올해 안에 6나노 제품 양산을 목표로 제품 설계를 마치는 등 초미세 공정에서 기술 리더십을 강화하고 있다.

 

16일 삼성전자가 개발한 차세대 5나노 공정은 셀 설계를 최적화해 기존 7나노 공정 대비 로직 면적을 25% 줄일 수 있다. 전력효율은 20% 향상됐으며, 성능은 10% 높아졌다. 특히 7나노 공정에 적용된 설계자산(IP)을 활용할 수 있어 5나노 공정의 설계 비용을 줄일 수 있다.

 

▲ 경기 화성에 건축 중인 삼성전자 화성캠퍼스 EUV 라인 조감도. (사진제공=삼성전자)

 

이번 초미세 공정의 기반이 된 EUV 기술은 기존 불화아르곤(ArF)보다 파장의 길이가 짧은 EUV 광원을 이용하는 것이다. 이를 통해 반도체 회로를 더욱 세밀하게 구현할 수 있다. 삼성전자는 올해 초 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 7나노 제품 양산에 들어갔다. 이 제품은 이달 중 출하가 시작될 예정이다. 6나노 제품은 고객사와 협의가 끝나는 대로 올 하반기 양산된다.

 

초미세 공정 파운드리 생산의 핵심 기술을 확보함에 따라 국내 시스템 반도체 생태계 강화는 물론 이 분야 역량이 높아지는 효과가 있을 것으로 기대된다. 파운드리 사업은 반도체 장비, 소재, 디자인, 패키징, 테스트 등 다양한 전문 업체들이 보조를 맞춰야 해 전·후방 연관 효과가 크다.

 

삼성전자는 한 장의 웨이퍼에 여러 종류의 반도체 제품을 생산하는 멀티 프로젝트 웨이퍼(MPW) 서비스를 최신 5나노 공정까지 확대, 고객사가 보다 편리하게 첨단 반도체를 제작할 수 있도록 지원할 계획이다. 또 자사 파운드리 지원 프로그램을 통해 5나노 공정 기반 제품 설계를 돕는 디자인 인프라를 제공한다.

 

삼성전자 측은 제품을 생산하지 않고 설계 및 기술 개발만 하는 팹리스 고객들이 이를 활용하면 보다 쉽고 빠르게 제품을 설계할 수 있고, 신제품 출시 시기도 앞당길 수 있을 것이라고 강조했다.

 

배영창 삼성전자 파운드리사업부 전략마케팅팀 부사장은 삼성전자의 EUV 기반 최첨단 공정은 성능과 IP 등에서 다양한 강점을 가지고 있어 5G, 인공지능(AI), 전장 등 신규 응용처를 중심으로 높은 수요가 예상된다향후에도 첨단 공정 솔루션으로 미래 시스템 반도체 산업을 이끌어 나가겠다고 말했다.

 

문화저널21 성상영 기자

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