삼성전자 ‘반도체 2030’ 파운드리 날개 달기

평택에 극자외선 파운드리 생산라인 구축

성상영 기자 | 기사입력 2020/05/21 [14:57]

삼성전자 ‘반도체 2030’ 파운드리 날개 달기

평택에 극자외선 파운드리 생산라인 구축

성상영 기자 | 입력 : 2020/05/21 [14:57]

기흥·화성 이어 세 번째… 5나노 이하 주력

이달 공사 착수해 2021년 하반기 본격 가동

 

삼성전자가 반도체 비전 2030’을 달성하기 위해 세부 전략 추진에 속도를 내고 있다. 삼성전자는 경기 평택시에 극자외선(EUV) 기반 파운드리 생산시설을 착공했다고 21일 밝혔다.

 

평택 파운드리 라인은 용인시 기흥과 화성시에 이어 세 번째로 구축되는 생산라인이다. 삼성전자는 올해 2월 화성에 EUV 전용 ‘V1 라인을 가동했다. 평택에 신규 투자를 집행하면서 모바일과 고성능 컴퓨팅(HPC), 인공지능(AI) 등 다양한 분야로 초미세 공정 기술의 적용 범위를 넓혀가는 모습이다.

 

파운드리는 반도체 생산을 전담하는 기업 또는 시설을 뜻한다. 반도체 설계와 디자인을 전문으로 하는 팹리스와 대비되는 개념이다. 삼성전자의 초미세 공정 반도체는 불화아르곤(ArF)보다 파장의 길이가 짧은 EUV 광원을 이용한다. 이를 통해 크기를 더욱 줄여 집적도를 높이면서 전력효율과 성능을 개선할 수 있다.

 

▲ 삼성전자는 경기 평택시에 극자외선(EUV) 기반 파운드리 생산시설을 착공했다고 21일 밝혔다. 삼성전자 평택캠퍼스 조감도. (사진제공=삼성전자)

 

앞서 삼성전자는 지난 4월 반도체 비전 2030을 통해 오는 2030년까지 시스템 반도체 분야에서 글로벌 1위를 달성하겠다고 공언했다. 이번 투자는 이를 실행하기 위한 세부 전략의 하나다. 삼성전자는 프리미엄 모바일 칩을 필두로 하이엔드(당대 최고성능) 모바일 및 신규 응용처로 첨단 EUV 공정을 적용해 나간다는 전략이다.

 

삼성전자는 지난해 화성 ‘S3 라인에서 업계 최초로 EUV 기반 7나노 양산을 시작한 바 있다. 올해 ‘V1 라인을 통해 초미세 공정 생산 규모를 확대했다. 2021년 평택 라인을 가동하면 7나노 이하 초미세 공정 기반 제품의 생산이 더욱 활발해질 전망이다.

 

삼성전자는 집적도를 더 높인 5나노 제품을 올해 하반기 화성을 시작으로 평택 라인에서도 주력 생산할 예정이다. 이달 시작된 평택 파운드리 라인은 2021년 하반기부터 본격적으로 가동에 들어간다.

 

정은승 삼성전자 DS부문 파운드리사업부 사장은 “5나노 이하 공정 제품의 생산 규모를 확대해 EUV 기반 초미세 시장 수요 증가에 적극 대응해 나갈 것이라며 전략적 투자와 지속적인 인력 채용을 통해 파운드리 사업의 탄탄한 성장을 이어나갈 것이라고 말했다.

 

문화저널21 성상영 기자

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